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描述:產(chǎn)品簡介:SE-L光譜橢偏儀是一款全自動(dòng)高精度光譜橢偏儀,集眾多科技技術(shù),采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng)測量模塊
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產(chǎn)品簡介: SE-L 光譜橢偏儀是一款全自動(dòng)高精度光譜橢偏儀,集眾多科技技術(shù),采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動(dòng)測量模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實(shí)現(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析。SE-L 光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu):介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、 PZT 膜,激光二極管 GaN 和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學(xué)工程、塊狀材料分析等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號(hào) | SE-L 光譜橢偏儀 |
主要特點(diǎn) | 1、高精度自動(dòng)測量光學(xué)橢偏測量解決方案
2、全自動(dòng)變角、調(diào)焦等控制平臺(tái),一鍵快速測量
3、軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷
4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
5、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
6、高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制、 PCRSA 配置, 實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采 集
7、全自動(dòng)橢偏測量技術(shù),基于行業(yè)電機(jī)控制技術(shù),全自動(dòng)調(diào)整測量角 |
| 度,高精度控制樣件臺(tái),實(shí)現(xiàn)樣件快速自動(dòng)對準(zhǔn)找焦
8、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜
9、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料 |
技術(shù)參數(shù) | 1、自動(dòng)化程度:自動(dòng)變角
2、應(yīng)用定位:自動(dòng)型
3、基本功能: Psi/Delta、N/C/S、R/T 等光譜
4、分析光譜: 380-1000nm(可擴(kuò)至 193-2500nm)
5、單次測量時(shí)間: 0.5-5s
6、重復(fù)性測量精度: 0.01nm
7、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mm,微光斑 200um
8、入射角調(diào)節(jié)方式:自動(dòng)變角
9、入射角范圍: 45-90°
10、找焦方式:自動(dòng)找焦
11、Mapping 行程: 支持 100x100mm(可選配)
12、支持樣件尺寸: 至 200mm |
可選配置 | 波段選擇
V:380-1000nm
UV:245-1000nm
XN:210-1650nm
DN+:193-2500nm 角度選擇
自動(dòng):45-90°
其他選擇 |
| Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)
溫控臺(tái):室溫一 600℃(供參考,按需定制) | |
可選配件 | 1 | 溫控臺(tái) |
2 | Mapping 擴(kuò)展模塊 | |
3 | 真空泵 | |
4 | 透射吸附組件 |
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