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  • 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)(DC磁控濺射-振動樣品臺)VTC-16PW
    小型粉末PVD包覆系統(tǒng)(DC磁控濺射-振動樣品臺)VTC-16PW

    產(chǎn)品詳細介紹:小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng),主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:380
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  • VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀
    VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀

    產(chǎn)品簡介:VTC-16-3HD3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),控制面板采用觸摸屏模式,基片極限尺寸為2″,放置樣品的直徑為?50mm,加熱溫度達500℃

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:338
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  • GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀
    GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀

    產(chǎn)品簡介:GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀,可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜,樣品直徑可達50mm,鍍膜厚度可達300?,特別適用于SEM樣品表面的鍍膜

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:300
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  • GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀
    GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀

    產(chǎn)品簡介:GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可對程序進行設定,并精確控制溫度在200oC-1500oC(或者1200oC-~1700oC)的范圍內(nèi)進行變化,可蒸鍍直徑長達2"的薄膜樣品,在對樣品進行蒸發(fā)鍍膜的過程中,樣品臺可進行旋轉(zhuǎn),以獲得更均勻的薄膜

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:355
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  • GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀
    GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀

    產(chǎn)品簡介:GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理(直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:360
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  • GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀
    GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀

    產(chǎn)品簡介:GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀特別適合對輕金屬如、Al、Mg、和Li等金屬的蒸鍍,這種鍍膜的方法主要是在真空條件下,加熱蒸發(fā)鎢絲舟中待蒸發(fā)的材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸汽流,入射到襯底或基底表面,從而凝結成固態(tài)薄膜的方法

    更新時間:2024-03-07型號:瀏覽量:308
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