型號：

Cm/C型金剛石對頂砧壓腔

描述：產品介紹：該種cell被廣泛用于低溫無磁高壓科學研究，能夠滿足軸向與徑向進光需求，能與低溫裝置配合進行光學、X-Ray、電學和同步輻射等相應的實驗

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詳細介紹

產品介紹：

該種cell被廣泛用于低溫無磁高壓科學研究，能夠滿足軸向與徑向進光需求，能與低溫裝置配合進行光學、X-Ray、電學和同步輻射等相應的實驗。

Cm型cell技術說明：

1、材質為進口高強鈹銅，熱處理后硬度HRC41±1；

2、采用V350材質的該型壓腔型號為C型，可以進行更高強度壓力實驗；

3、加工規(guī)范依據公制規(guī)格加工，配備進口公制螺絲配件；

4、加工精度要求：平行度優(yōu)于±0.005，未標注公差±0.02，同軸度0.003，垂直度0.002，光潔度---底座面0.4，端面0.8；WC seat，0.005平行度，未標注公差±0.02，硬度HRC90；

5、外觀亞光防銹處理，獨立真空包裝；

6、每套壓機配件：鈹銅級M3*20左右旋加壓螺絲，各2枚；M1.2頂絲基米8枚，鈹銅迷宮碟簧8枚，保護基米1枚，WC墊塊2枚；

7、保修1年。

產品參數：

壓砧支撐材料：碳化鎢；

加壓機制：螺栓-碟簧加壓

頂部張角：30度；底部張角：34度

DAC高度：29.58mm

DAC外徑：20.32mm

工作距離：<15mm

中心高度：7.62mm；中心孔徑：2.0mm

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